Chtěli bychom vás informovat, že používáme cookies. Cookies slouží k zapamatování preferencí ve vyhledávání a umožňují tak lepší zážitek z nakupování. Přečtěte si více o cookies & bezpečnostním nastavení zde..
The PRIMER Mask - Maska a podkladová báze pod make-up v jednom - SEPHORA COLLECTION
 

SEPHORA COLLECTION

The PRIMER Mask
Maska a podkladová báze pod make-up v jednom

  • NOVINKA

Denní krém a současně podkladová báze pod make-up je zde! Tato maska z čistě bavlněné tkaniny je napuštěná světle růžovou účinnou látkou krémové konzistence obsahující fotoreflexní pigmenty a ...

Více informací
TO DO
1ks
  • NOVINKA
140Kč
Na skladěPřidat do košíku
  • Popis
  • Rady pro používání
  • Složení
  • Více informací
Denní krém a současně podkladová báze pod make-up je zde!

Tato maska z čistě bavlněné tkaniny je napuštěná světle růžovou účinnou látkou krémové konzistence obsahující fotoreflexní pigmenty a přírodní výtažek z bavlníku.
Hydratace, rozjasnění a vyhlazení pleti, snadná aplikace a fixace make-upu - to vše během pouhých 3 minut! Výsledkem je dokonale hydratovaná pleť a make-up, který opravdu drží.

Návod k použití:
Rozložte/Aplikujte/Vyčkejte (pouhé 3 minuty!)/A obdivujte výsledek!

INGREDIENTS : Aqua (Water), Glycerin, Ethylhexyl Stearate, Methylpropanediol, Caprylic/Capric Triglyceride, Niacinamide, Xylitylglucoside, PEG-450, CI 77891 (Titanium Dioxide), Anhydroxylitol, Cetearyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Hydroxyacetophenone, Xylitol, Caprylic/Capric Glycerides, Panthenol, Carbomer, Glucose, Allantoin, Tromethamine, Xanthan Gum, Polymethylsilsesquioxane, Butylene Glycol, Parfum (Fragrance), Tocopheryl Acetate, Silica, Ethylhexylglycerin, Chondrus Crispus (Carrageenan) Extract, 1,2-Hexanediol, Dipotassium Glycyrrhizate, Lonicera Japonica Flower Extract (Lonicera Japonica (Honeysuckle) Flower), Disodium EDTA, Phenoxyethanol, Lonicera Caprifolium (Honeysuckle) Flower Extract, Gossypium Herbaceum (Cotton) Extract, Mica, Althaea Rosea Flower Extract, CI 17200 (Red 33), Potassium Sorbate, Sodium Benzoate, Citric Acid.
  • 1

    Odstraňte ochrannou fólii.

  • 2

    Aplikujte masku na vyčištěnou, suchou pleť.

  • 3

    Nechte působit 3 minuty.

  • 4

    Odstraňte masku a jemně vmasírujte zbytek produktu do pleti.

Recenze zákazníků